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納米氧化鋅分散機(jī),納米級粉末的分散,普遍會出現(xiàn)物料團(tuán)聚的現(xiàn)象,導(dǎo)致粒徑變大。SGN研磨式分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問題!
產(chǎn)品型號:GMD2000/4
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時間:2025-09-02
訪  問  量:160
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納米氧化鋅分散機(jī),氧化鋅分散機(jī),納米氧化鋅研磨分散機(jī),高剪切分散機(jī),納米分散機(jī),研磨式分散機(jī)
納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無機(jī)產(chǎn)品,使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、醫(yī)藥等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價值,具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。
納米氧化鋅分散機(jī),納米級粉末的分散,普遍會出現(xiàn)物料團(tuán)聚的現(xiàn)象,導(dǎo)致粒徑變大。SGN研磨式分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問題!
GMD2000系列研磨式分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
               
GMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號  | 流量 L/H  | 轉(zhuǎn)速 rpm  | 線速度 m/s  | 功率 kw  | 入/出口連接 DN  | 
GMD2000/4  | 300  | 9000  | 23  | 2.2  | DN25/DN15  | 
GMD2000/5  | 1000  | 6000  | 23  | 7.5  | DN40/DN32  | 
GMD2000/10  | 2000  | 4200  | 23  | 22  | DN80/DN65  | 
GMD2000/20  | 5000  | 2850  | 23  | 37  | DN80/DN65  | 
GMD2000/30  | 8000  | 1420  | 23  | 55  | DN150/DN125  | 
GMD2000/50  | 15000  | 1100  | 23  | 110  | DN200/DN150  | 
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn).
,氧化鋅分散機(jī),納米物料分散機(jī),研磨式分散機(jī),SGN研磨式分散機(jī)專業(yè)于納米級物料的分散機(jī),解決團(tuán)聚問題,還原原始納米粒徑,更高效!
企業(yè)名稱:上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司
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公司地址:上海市嘉定區(qū)朱橋鎮(zhèn)朱戴路900號
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